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실험실소개

연혁

HOME 실험실소개 연혁
1999 ~ 2018
  1. 2016 ~ 2018
    • 플렉서블 전자소재 센터 개소(FEMC)
  2. 2008 ~ 2009
    • 4동 G층 실리콘실험실 6인치 일괄공정 전환
  3. 2004 ~ 2008
    • 4동 G층 나노실험실 조성
  4. 1999 ~ 2002
    • 4동 G층 화합물실험실 일체 제작환경 조성(메모리 기술료 및 MIC 사이버 Foundry 연구비 재원)
1987 ~ 1998
  1. 1996 ~ 1998
    • 4동 G층 R&D 실험실 70평 조성(MIC, KT, 부처공동연구비 및 메모리 기술료 재원)
  2. 1993 ~ 1995
    • 4동 G층 화합물실험실 20평 추가 조성(MIC, 부처공동연구비)
  3. 1991 ~ 1992
    • 4동 G층 화합물실험실 105평 조성, 4동 1층 물성분석실험실 78평 조성(MIC, KT, 부처공동연구비, OECF 차관 재원)
  4. 1987 ~ 1990
    • 4동 G층 실리콘실험실 235평 조성(KT 및 부처공동연구비, 1989년 특별외화대출 재원)