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기술 요약

고 이동도 산화물 TFT 기술

고 이동도 산화물 TFT 

기술 개요

고해상도 고속 동작 디스플레이의 백플레인 소자로 사용이 가능한 고이동도 산화물

TFT를 고안정성을 유지하기 위한 구조임

ALD (원자층증착법)을 이용하여 수소 베리어를 형성하는 것이 기본 구조임

고이동도 산화물 TFT에 대한 공정 노하우 기술

사양

UHD 급 (4K x 2K)이상의 고해상도 고속동작 (120Hz) TV, 모니터, 태블릿, 휴대폰

VR/AR용 초고해상도 (> 1000ppi) 패널

30cm2/Vs의 고이동도 산화물 TFT

이전가능

기술

소자 내에 수소 베리어를 ALD (원자층 증착법)으로 형성하는 구조를 제시

고이동도 산화물 TFT를 구현하기 위한 액티브층 형성 방법및 산화물 TFT 제조 공

정 전반에 대한 노하우 기술(다양한 구조에 대한 공정 recipe 제공)

기술 적용

분야

UHD 급 (4K x 2K)이상의 고해상도 고속동작 (120Hz) TV, 모니터, 태블릿, 휴대폰

VR/AR용 초고해상도 (> 1000ppi) 패널

특허 사항

특허 명

고이동도 산화물 박막트랜지스터

출원등록

사항

등록 번호: 8841665 (미국)

문의: ICT소재부품연구소 기업지원협력실(042-860-5907, siyeo@etri.re.kr)

Key Word: 산화물TFT, 고이동도, ALD, 소자