기술 요약

양산용 IPVD(Ionized Physical Vapor Deposition) 핵심 기술

양산용 IPVD(Ionized Physical Vapor Deposition) 핵심 기

기술 개요

양산용 IPVD 핵심 기술은 세계 최초의 R2R IPVD인 동시에 유리기판 및 Roll film을

적용할 수 있는 겸용 증착 기술임.

양산용 IPVD 핵심 기술은 투명전자재료의 박막화에 큰 기여가 가능하며, 터치스크

린패널용 박막 증착 공정에 최적화시킬 수 있음

이전 가능

기술

양산용 IPVD 핵심 기술

- 양산용 IPVD 설계 기술 및 제작 기술

IPVD에 의한 저온 ITO 공정 기술

기술 적용

분야

터치스크린패널용 박막 증착 공정 및 강화유리 및 플라스틱 기판에 ITO 저온 증착

특허 사항

특허 명

1-박막 증착 장치

2-다층 박막 증착 장치

출원등록

사항

1-출원 번호: 2010-0105303 (한국)

2-출원 번호: 2010-0101510 (한국)

문의: ICT소재부품연구소 기업지원협력실(042-860-5907, siyeo@etri.re.kr)

Key Word: IPVD, 양산용, 저온ITO